真空爐石墨發(fā)熱元件的適用場景
    半導(dǎo)體工業(yè)：單晶硅 / 碳化硅襯底的高溫退火爐、離子注入機(jī)加熱系統(tǒng)，確保溫度穩(wěn)定性（±1℃），避免雜質(zhì)污染；
    航空航天資料處理：高溫合金、陶瓷基復(fù)合資料的燒結(jié)爐，支撐 2000℃以上超高溫工藝，提升資料致密度；
    新能源資料制備：鋰電池正極資料的煅燒爐、燃料電池催化劑的高溫復(fù)原爐，習(xí)慣氫氣等復(fù)原性氣氛；
    高溫實(shí)驗(yàn)設(shè)備：高校、研究所的資料功能測試爐、熱模擬試驗(yàn)機(jī)，可精準(zhǔn)操控升溫曲線與保溫時刻；
    貴金屬熔煉：黃金、鉑金的真空熔煉爐，發(fā)熱體不與貴金屬反響，確保金屬純度達(dá) 99.999% 以上。